Leica EM TIC 3X通過離子槍激發(fā)獲得的離子束,以垂直于樣品側(cè)面縱向轟擊樣品,可獲得高質(zhì)量無應(yīng)力“切割”截面,便于SEM觀察。該處理方法適用于多層膜材料、軟硬復(fù)合材料等高難度制備樣品,并且操作簡(jiǎn)單,可有效避免涂抹效應(yīng),不需要大量摸索條件即可獲得理想的截面,使樣品暴露內(nèi)部細(xì)微結(jié)構(gòu)信息。
特點(diǎn)
? 可容納樣品尺寸50×50×10mm,可獲得有效切割截面面積>4mm×1mm
? 三把離子槍,離子束能量1keV-10keV,切割速率150μm/h (Si@10kV, 50μm切割高度)
? 離子束處理過程中樣品位置固定,無需偏轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng),無投影效應(yīng),熱傳導(dǎo)性好
? 可進(jìn)行離子束切割或刻蝕,可選擇任意離子槍
? 真空泵解耦合設(shè)計(jì),無震動(dòng)傳導(dǎo)
? 觸摸屏操作面板,直觀、簡(jiǎn)易操作,可編程可軟件升***
? 可選配:液氮制冷冷臺(tái)-150°至30°,25L液氮罐及自動(dòng)泵,具有自動(dòng)快速制冷功能
? 可選配:三樣品臺(tái),可***次連續(xù)處理三個(gè)樣品
? 可選配:旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái),用于對(duì)樣品進(jìn)行離子束拋光
Leica EM TIC 3X通過離子槍激發(fā)獲得的離子束,以垂直于樣品側(cè)面縱向轟擊樣品,可獲得高質(zhì)量無應(yīng)力“切割”截面,便于SEM觀察。該處理方法適用于多層膜材料、軟硬復(fù)合材料等高難度制備樣品,并且操作簡(jiǎn)單,可有效避免涂抹效應(yīng),不需要大量摸索條件即可獲得理想的截面,使樣品暴露內(nèi)部細(xì)微結(jié)構(gòu)信息。
特點(diǎn)
? 可容納樣品尺寸50×50×10mm,可獲得有效切割截面面積>4mm×1mm
? 三把離子槍,離子束能量1keV-10keV,切割速率150μm/h (Si@10kV, 50μm切割高度)
? 離子束處理過程中樣品位置固定,無需偏轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng),無投影效應(yīng),熱傳導(dǎo)性好
? 可進(jìn)行離子束切割或刻蝕,可選擇任意離子槍
? 真空泵解耦合設(shè)計(jì),無震動(dòng)傳導(dǎo)
? 觸摸屏操作面板,直觀、簡(jiǎn)易操作,可編程可軟件升***
? 可選配:液氮制冷冷臺(tái)-150°至30°,25L液氮罐及自動(dòng)泵,具有自動(dòng)快速制冷功能
? 可選配:三樣品臺(tái),可***次連續(xù)處理三個(gè)樣品
? 可選配:旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái),用于對(duì)樣品進(jìn)行離子束拋光