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ENTECH RIE SI591 平板電容式反應離子刻蝕機

RIE SI591；兼容多種氯基或氟基刻蝕工藝；小型化和高度模塊化；SENTECH控制軟件；

Process flexibility工藝靈活性 
反應離子刻蝕機 SI 591系列兼容多種氯基或氟基刻蝕工藝。 
Small footprint ａnd high modularity設(shè)備小型化和高度模塊化 
Si591系列可設(shè)置為單腔系統(tǒng)或帶盒式裝片的多腔系統(tǒng)。 
SENTECH control software SENTECH控制軟件 
控制軟件包括模擬用戶界面，參數(shù)窗口，工藝程序編輯器，數(shù)據(jù)記錄和用戶管理。 

SI 591的真空裝載片裝置和完全由計算機控制工藝條件的軟件系統(tǒng)，使其具優(yōu)良的工藝重復性。靈活、模塊化和小型化是SI591系統(tǒng)的設(shè)計特點，能容納200mm（8跡┑難坊蛟仄獺 

SI591系統(tǒng)通過不同選件可實現(xiàn)穿墻安裝或*小占地面積。 

大觀察窗位于上電極頂部，反應器能方便的容納SENTECH激光干涉儀或者OES、RGA系統(tǒng)。用SENTECH橢偏儀可以在設(shè)備上通過橢偏儀端口進行在線工藝監(jiān)控。
 
SI591系統(tǒng)沿承了RIE的平行板電極設(shè)計優(yōu)勢，刻蝕過程全部由計算機控制，可以進行多種材料的刻蝕。SENTECH還可提供多種自動化配置，從真空盒式裝片到*多六個端口的沉積刻蝕多腔系統(tǒng)，用以提高設(shè)備的靈活性和產(chǎn)能。SI591也可以作為多腔系統(tǒng)的模塊組成部分。 

SI 591 compact 
• RIE plasma etcher with small footprint 
• Loadlock 
• Halogen ａnd fluorine chemistry 
• For up to 200 mm wafers 
• Diagnostic windows for laser interferometer ａnd OES 

SI591 Cluster 
• Configurations of up to 6-port transfer chamber available 
• Combination of RIE, ICP-RIE, ａnd PECVD 
• Manual vacuum loadlock or cassette station 
• Cluster for R & D ａnd high throughput 
• SENTECH control software